Patent- und Gebrauchsmusterverletzung
Mit diesem Band aus der Reihe Fachanwaltslehrgänge der Hagen Law School erhält der Leser ein fachlich und didaktisch ausgereiftes Werk, das speziell für die Ausbildung zum Fachanwalt konzipiert wurde. Der Text enthält den Lehrstoff einer...
Leider schon ausverkauft
Buch
- Lastschrift, Kreditkarte, Paypal, Rechnung
- Kostenlose Rücksendung
Produktdetails
Produktinformationen zu „Patent- und Gebrauchsmusterverletzung “
Klappentext zu „Patent- und Gebrauchsmusterverletzung “
Mit diesem Band aus der Reihe Fachanwaltslehrgänge der Hagen Law School erhält der Leser ein fachlich und didaktisch ausgereiftes Werk, das speziell für die Ausbildung zum Fachanwalt konzipiert wurde. Der Text enthält den Lehrstoff einer der Fachanwaltsordnung entsprechenden Ausbildung. Besondere Aufmerksamkeit gilt den Problemen, die in der Praxis des Fachanwalts im Vordergrund stehen. Das Werk eignet sich in besonderer Weise für eine berufsbegleitende Fachanwaltsausbildung, aber auch für ein Selbststudium mit Hilfe ergänzender Fachliteratur.
Autoren-Porträt von Tobias Hahn, Stefan Richter
Tobias Hahn obtained his doctorate at the Chair of Information and Communication Management at the Technische Universität Berlin. He currently works in the division of business transformation for a leading integrated telecommunications group.
Bibliographische Angaben
- Autoren: Tobias Hahn , Stefan Richter
- 2014, 3., überarb. Aufl., 123 Seiten, Maße: 15,2 x 21,1 cm, Kartoniert (TB), Deutsch
- Verlag: BWV - Berliner Wissenschafts-Verlag
- ISBN-10: 3830533578
- ISBN-13: 9783830533573
- Erscheinungsdatum: 24.06.2014
Kommentar zu "Patent- und Gebrauchsmusterverletzung"
Schreiben Sie einen Kommentar zu "Patent- und Gebrauchsmusterverletzung".
Kommentar verfassen