Ion Implantation Technology - 94 (PDF)
(Sprache: Englisch)
The aim of these proceedings is to present and stimulate discussion on the many subjects related to ion implantation among a broad mix of specialists from areas as diverse as materials science, device production and advanced ion implanters.
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Produktinformationen zu „Ion Implantation Technology - 94 (PDF)“
The aim of these proceedings is to present and stimulate discussion on the many subjects related to ion implantation among a broad mix of specialists from areas as diverse as materials science, device production and advanced ion implanters.
The contents open with a paper on the future developments of the microelectronics industry in Europe within the framework of the global competition. The subsequent invited and oral presentations cover in detail the following areas: trends in processing and devices, ion-solid interaction, materials science issues, advanced implanter systms, process control and yield, future trends and applications.
Bibliographische Angaben
- 1995, 1030 Seiten, Englisch
- Herausgegeben: S. Coffa, G. Ferla, E. Rimini, F. Priolo
- Verlag: Elsevier Science & Techn.
- ISBN-10: 044459972X
- ISBN-13: 9780444599728
- Erscheinungsdatum: 16.05.1995
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eBook Informationen
- Dateiformat: PDF
- Größe: 202 MB
- Mit Kopierschutz
- Vorlesefunktion
Sprache:
Englisch
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