Spacer Engineered FinFET Architectures (PDF)
High-Performance Digital Circuit Applications
(Sprache: Englisch)
This book focusses on the spacer engineering aspects of novel MOS-based device-circuit co-design in sub-20nm technology node, its process complexity, variability, and reliability issues. It comprehensively explores the FinFET/tri-gate architectures with...
sofort als Download lieferbar
eBook (pdf)
62.70 €
- Lastschrift, Kreditkarte, Paypal, Rechnung
- Kostenloser tolino webreader
Produktdetails
Produktinformationen zu „Spacer Engineered FinFET Architectures (PDF)“
This book focusses on the spacer engineering aspects of novel MOS-based device-circuit co-design in sub-20nm technology node, its process complexity, variability, and reliability issues. It comprehensively explores the FinFET/tri-gate architectures with their circuit/SRAM suitability and tolerance to random statistical variations.
Autoren-Porträt von Sudeb Dasgupta, Brajesh Kumar Kaushik, Pankaj Kumar Pal
Sudeb Dasgupta, Brajesh Kumar Kaushik, Pankaj Kumar Pal
Bibliographische Angaben
- Autoren: Sudeb Dasgupta , Brajesh Kumar Kaushik , Pankaj Kumar Pal
- 2017, 154 Seiten, Englisch
- Verlag: Taylor & Francis
- ISBN-10: 1351751042
- ISBN-13: 9781351751049
- Erscheinungsdatum: 26.06.2017
Abhängig von Bildschirmgröße und eingestellter Schriftgröße kann die Seitenzahl auf Ihrem Lesegerät variieren.
eBook Informationen
- Dateiformat: PDF
- Größe: 16 MB
- Mit Kopierschutz
- Vorlesefunktion
Sprache:
Englisch
Kopierschutz
Dieses eBook können Sie uneingeschränkt auf allen Geräten der tolino Familie lesen. Zum Lesen auf sonstigen eReadern und am PC benötigen Sie eine Adobe ID.
Kommentar zu "Spacer Engineered FinFET Architectures"
Schreiben Sie einen Kommentar zu "Spacer Engineered FinFET Architectures".
Kommentar verfassen